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一文了解光刻机的发展

航空发动机一直被誉为人类顶尖工业皇冠上的明珠。但最近十年,不断挑战物理学极限的半导体光刻机,大有挑战明珠之王的趋势。

航发是在极端高温高压下挑战材料和能量密度的极限,而光刻是在比头发丝还细千倍的地方挑战激光波长和量子隧穿的极限。

更难得的是,和低可靠性的航天高科技不同,航发和光刻的可靠性也是人类骄傲之花:前者保证了每天十万架飞机在天空安全翱翔,后者在全球工厂每秒钟刻出上千亿个晶体管分毫不差。

引子

2000年,成立15年当时排名世界第二的荷兰ASML(阿斯麦)公司已经成功占领韩国和台湾市场,但还在琢磨怎么卖光刻机给那时芯片的绝对霸主英特尔(Intel)。

缺乏新一代157nm激光需要配置的反折射镜头技术也是让ASML焦虑的地方。同时,在美国能源部和几大芯片巨头合建的EUV光刻联盟里,ASML还只是个小配角。

这时下一代光刻技术发展会怎样,整个半导体届没有人知道。

在转折关头,ASML决定另辟蹊径,报价16亿美元收购市值只有10亿的硅谷集团(SVG)。曾经辉煌的SVG当时在光刻机的市场份额只有不到8%,年营业额只有2.7亿美元,而且193nm产品水平还远不如ASML。所以华尔街认为ASML买贵了,ASML股价当天暴跌7.5%。

然而从后来的结果看,ASML等于花钱买了光刻机行业最值钱的门票:英特尔的vendor code,同时摇晃了尼康(Nikon)的支柱。此外,SVG拥有最成熟的157nm光学技术,等于ASML买了一个技术双保险,这点后面会再详述。

不过,别以为西方人都是一家子。这次收购仍遭到美国政府和商会的阻挠,美国国防部审查说ASML董事长在一个曾经违反禁令偷偷卖夜视镜给伊拉克的荷兰公司当过董事。

中国公司的老对手美国外国投资委员会最终在收购协议上加了一堆条件,其中包括不许收购SVG负责打磨镜片的子公司Tinsley,以及保证各种技术和人才留在美国。

这些条件反而让ASML顺理成章地成为了半个美国公司,享受到美国强劲的基础科学带来的巨大好处,为多年后在EUV一支独秀做了有力的铺垫。

早期,60-70年代

光刻机的原理其实像幻灯机一样简单,就是把光通过带电路图的掩膜(Mask,后来也叫光罩)投影到涂有光敏胶的晶圆上。早期60年代的光刻,掩膜版是1:1尺寸紧贴在晶圆片上,而那时晶圆也只有1英寸大小。

因此,光刻那时并不是高科技,半导体公司通常自己设计工装和工具,比如英特尔开始是买16毫米摄像机镜头拆了用。只有GCA, K&S和Kasper等很少几家公司有做过一点点相关设备。

60年代末,日本的尼康和佳能开始进入这个领域,毕竟当时的光刻不比照相机复杂。

70年代初,光刻机技术更多集中在如何保证十个甚至更多个掩膜版精准地套刻在一起。Kasper仪器公司首先推出了接触式对齐机台并领先了几年,Cobilt公司做出了自动生产线,但接触式机台后来被接近式机台所淘汰,因为掩膜和光刻胶多次碰到一起太容易污染了。

1973年,拿到美国军方投资的Perkin Elmer公司推出了投影式光刻系统,搭配正性光刻胶非常好用而且良率颇高,因此迅速占领了市场。

1978年,GCA推出真正现代意义的自动化步进式光刻机(Stepper),分辨率比投影式高5倍达到1微米。这个怪怪的名字来自于照相术语Step and Repeat,这台机器通俗点说把透过掩膜的大约一平方厘米的一束光照在晶圆上,曝光完一块挪个位置再刻下一块。由于刚开始Stepper生产效率相对不高,Perkin Elmer在后面很长一段时间仍处于主导地位。

(来源:互联网)
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